濺射靶材行業的發展對于許多行業來說非常重要，而且濺射靶材中的濺射技術作為薄膜材料制備的主流工藝，其應用領域廣泛，如集成電路、平板顯示器、太陽能電池、信息存儲、工具改性、光學鍍膜、電子器件、高檔裝飾用品等行業。高純濺射靶材則主要用于對材料純度、穩定性要求更高的領域，如集成電路、平板顯示器、太陽能電池、記錄媒體、智能玻璃等行業。對應這些行業來說，目前對濺射靶材使用增長最快的為以下三個行業：

一、濺射靶材應用于太陽能薄膜技術行業；

薄膜太陽能電池轉化效率存在提升空間，應用領域增加將推升靶材需求。晶體硅電池的轉化效率已經接近其理論值，而薄膜太陽能電池的轉化效率在逐年提高。據預測，薄膜太陽能電池市場規模未來幾年會呈現逐年遞增的趨勢，并于2023年突破395億美元大關，年復合增長率超過19%。預計2018年全球太陽能電池用靶材市場規模將會繼續保持高速增長，增速超過30%。太陽能行業對濺射靶材的需求量每年快速增長。

二、濺射靶材應用于計算機硬盤存儲行業；

濺射靶材在計算機行業的使用在不斷增加，尤其是在計算機硬盤上的發展，對于濺射靶材的需求量旺盛。目前硬盤容量快速增長帶動帶動上游靶材需求增長，據預測，未來幾年HDD的出貨總容量依然會保持增長態勢，年復合增長率達到18%。受機械硬盤出貨容量增長的帶動，記錄媒體靶材需求穩定增長。

三、濺射靶材應用于顯示器生產行業；

顯示器行業對于濺射靶材的依賴性比較強，高純度濺射靶材的使用可以讓顯示器更加完美。目前平板顯示行業將增長重點移至出貨面積，平板顯示靶材需求增加。隨著消費者對大尺寸電視及智能手機需求的增長，平板顯示器尺寸迅速增大，推動平板顯示器行業規模不斷增大，預計2018年全球平顯靶材市場規模增速達到20%。

另外濺射靶材產業鏈包括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應用環節，其中，靶材制造和濺射鍍膜是關鍵環節。金屬提純位于靶材產業鏈上游，還可以細分為采礦、冶煉和加工。而濺射靶材應用于產業鏈下游是電子元器件應用，包括計算機、通信和其他電子設備終端。這樣行業對濺射靶材的需求也在不斷的上升，尤其是電子元件行業對濺射靶材的需求量也在快速的增長。